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院校用小型真空電弧爐

院校用小型真空電弧爐

所屬分類(lèi):實(shí)驗(yàn)真空熔煉爐

產(chǎn)品型號(hào):KDH-300

更新時(shí)間:2023-11-09

描述:院校用小型真空電弧爐采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛;水冷銅電極可360度移動(dòng),操作靈活,同時(shí)水冷坩堝小巧可更換,可定制。

詳細(xì)信息

院校用小型真空電弧爐特點(diǎn):

1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì),外形美觀大方,不生銹。

2·采用立式圓筒形真空室

3 .配置大口徑觀察窗,可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況

3·冶煉溫度高,溫度可3500度以上,

4·采用電弧熔煉的熔煉電源。

5·采用工作臺(tái)式設(shè)計(jì),操作方便

6 配有操作模擬屏,控制數(shù)據(jù)直觀顯示,操作直觀簡(jiǎn)潔

7.高真空設(shè)計(jì),真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上

8.自帶冷水機(jī),到貨即可使用。

9.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

10.水冷銅電極可360度移動(dòng),操作靈活,同時(shí)水冷坩堝小巧可更換,可定制。

11.帶翻料裝置,克服物料單面熔化不勻的局面

12.帶真空吸鑄鑄造工位

13·規(guī)格多樣可非標(biāo)定制:

14·樣品可以是粉末、絲狀、屑狀及鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、泥沙狀等

15·設(shè)備高效性:大部分金屬材料加熱重熔時(shí)間為一分鐘或更短

院校用小型真空電弧爐廣泛應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬、金屬合金等,適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。


※技術(shù)參數(shù)

1.設(shè)備總功率:10Kw;

2.電源電壓:?jiǎn)蜗?20V,50Hz

3.真空度:優(yōu)于5×10E-4Pa

4.設(shè)備容量:20g單工位

5.熔煉溫度:3500

6.真空泵組:飛越機(jī)械泵 +管路閥門(mén)

7.熔煉工位:5~7個(gè)標(biāo)準(zhǔn)¢20*8 冶煉工位,冶煉工位可根據(jù)客戶(hù)要求配置

8.可選配吸鑄功能

9:真空腔尺寸:¢200×250

10:控制方式:操作模擬屏

 

※產(chǎn)品規(guī)格

1. 外形尺寸:450*500*550m(L*W*H)

2. 設(shè)備總重量:80Kg

 

※標(biāo)準(zhǔn)配件

1.高真空腔體 1套

2.電弧熔煉電源 1套

3.翻料機(jī)構(gòu)  1套

4.大尺寸觀察窗  1套

5.可移動(dòng)旋轉(zhuǎn)電極 1件

6.水冷銅坩堝  1套

7·循環(huán)冷水機(jī) 1套

8.真空系統(tǒng) 1套

9.產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)合格證 1份

※可選配件

1.吸鑄銅坩堝

2.吸鑄模具




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